Главная > >>>>Введение в технологию материалов микроэлектроники. Часть 3. Эпитаксиальный рост. Учебник для вузов
Цена снижена! Введение в технологию материалов микроэлектроники. Часть 3. Эпитаксиальный рост. Учебник для вузов Увеличить

Введение в технологию материалов микроэлектроники. Часть 3. Эпитаксиальный рост. Учебник для вузов

44277606

Новый товар

Представлены основные виды эпитаксиальных технологий. Рассмотрено конструктивное оформление и основные параметры наиболее распространенных видов эпитаксиального

Подробнее

Нет в наличии товара

Цена со скидкой:
56,54 €

-45%

Цена без скидки:
102,80 €

Добавить в избранное

Характеристики

Автор Александрова Ольга Анатольевна
Серия Радиоэлектроника и приборостроение
Переплет твердый
Год издания 2023
ISBN 978-5-507-45481-5
Страниц 216
Формат 24.3x17x1.4 см

Описание

Представлены основные виды эпитаксиальных технологий. Рассмотрено конструктивное оформление и основные параметры наиболее распространенных видов эпитаксиального роста.
Сформулированы требования к эпитаксиальным подложкам и описаны основные этапы их подготовки для эпитаксии. Рассмотрены особенности зародышеобразования в гетерогенных системах. Представлена классификация видов и механизмов эпитаксии. Структурные особенности эпитаксиальных систем классифицируются на основе бикристаллографического подхода, с привлечением понятий о метрическом и симметрийном несоответствии компонентов эпитаксиальной пары. Рассмотрена методика идентификации ориентационных соотношений в гетероэпитаксиальных системах, основные источники упругих напряжений и механизмы их релаксации.
Учебник предназначен для бакалавров, обучающихся по направлениям «Электроника и наноэлектроника» и «Нанотехнологии и микросистемная техника». Может быть полезен для аспирантов и научных сотрудников, специализирующихся в проблематике эпитаксиальных технологий.
Вам может быть интересно:
Рассылка