Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем. Часть 2

Artikel-Nr.: 04551715

Zustand: Neuer Artikel

Дано представление об основных маршрутах изготовления и конструкциях изделий микроэлектроники на основе кремния. Рассмотрены основные процессы создания

Mehr Infos

Nicht mehr lieferbar

An einen Freund senden

An einen Freund senden

Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем. Часть 2
Дано представление об основных маршрутах изготовления и конструкциях изделий микроэлектроники на основе кремния. Рассмотрены основные процессы создания

Empfänger :

Name Ihrer/es Freundin/es ^* :

E-Mailadresse Ihres Freundes ^* :

^* Pflichtfelder

oder Abbrechen
Ausdrucken

Mehr Infos

Дано представление об основных маршрутах изготовления и конструкциях изделий микроэлектроники на основе кремния. Рассмотрены основные процессы создания интегральных схем: химическая и плазмохимическая обработка материала, введение примесей в кремний, выращивание окисла кремния и его охлаждение, литография, создание металлических соединений и контактов. Приведены методы моделирования процессов распределения примесей в полупроводниковых структурах. Для студентов и аспирантов, специализирующихся в области микроэлектроники и полупроводниковых приборов. Может быть использовано также специалистами, работающими в данной области.